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　　本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合 一场价值不菲的科技豪赌。 据报道，美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔（ASML)

　　快科技6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下㊣最先进的光刻机，单台造价㊣达3.8亿美元。 报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高㊣数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统

　　未来随着离子束光刻技术不断进步，离子束光刻胶行业发展态势将持续✅向好。 离子束光刻胶又称✅IBL光刻胶，指专用于离子束光刻工㊣艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势，在纳米压印技术、纳米科学研㊣究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景

　　1）分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 2）对比度（Contrast）

　　如今的光刻机市场，已经是ASML的天下了，ASML一家拿下了全球80%以上的市场，特别是在EUV这种高端市场，ASML拿下100%的份额，其它任何光刻机厂商，都生产不了EUV光刻机。 与之对比的是，

　　自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。 而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。 如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%

　　据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在，意在㊣何时使用，无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在，以及具体是如何工作的，ASML、台积✅电也均未公开回应

　　在芯片产业中，光刻胶是不可或缺的重要材料。因为目前的芯片制造均是采取光刻方式，而这种方式㊣就需要光刻㊣胶。 而光刻胶与光刻机的技术又是对应的，不同的光刻机，对应不同的光刻波长，又对应着不同的光刻胶，同样可以分为KrF、ArF、EUV等等

　　随着芯片工艺的不断进步，光刻机地位也是越来越重要，因为光刻机的精度，一定程度上决定了光刻工艺的精度，就决定了芯片的精度。 于是从普通的干式DUV光刻机，到浸润式DUV光刻机，再到普通EU㊣V光刻机，再

　　前言： 近年来，三星电子✅持续加大采购力度，以确保更多EUV光刻设备的供应。 其目标是，在2024年上半年进入3nm世代的第二代工艺，2025年进入2nm工艺，最终于2027年实现1.4nm工艺的突破

　　美国现在甚至不想让ASML为已经卖给中国的光刻机提供售后维护服务，不过在ASML看来，这么做影响并不大，至少基本不会影响其收入。 Peter Wennink虽然从ASML CEO的位子上退了下来硅片 晶圆 区别，但似乎更敢说线